DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机-实验室常用设备-仪器设备-生物在线
艾锐斯科技(北京)有限公司
DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机

DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机

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产品名称: DaLI高分辨无掩膜纳米光刻机

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产品编号: DaLI

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产品产地: 欧洲

品牌商标: miDALIX

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ProtoLaser LDI是一款多功能,高精度,桌面型无掩膜激光直写光刻设备,用于在光致抗蚀基材上成像,无需掩膜,比传统光刻工艺形成的图像精度更高。工作幅面达100×100mm。最细通道宽度1μm ProtoLaser LDI是微流体通道设计和制作的理想工具。

无掩膜激光直写光刻设备
LPKF ProtoLaser LDI
采用UV紫外激光技术,直接读取设计数据,激光直接在感光层上形成精细结构。无需昂贵的曝光设备,也无需外加工昂贵的掩膜。

这一工艺可加工多种平整的基材表面,无特殊环境条件要求(推荐使用黄灯)。只需将样品放入标准或客户定制的承载装置,然后直接推入ProtoLaser设备中即可。

该工艺为非接触式,因此不涉及工具损耗,设备多年不需要维护,几乎没有运行成本。这使得该设备对于创新性设计测试方面,是一款非常完美、耐用的工具。LPKF ProtoLaser LDI很大程度上提高了创新实现的可能性。

LDI
的优点:快稳准,功能强大易操作
通过声光偏转器将100kHz光束定位,使激光极速直写成为可能,只需花费几分钟即可制作一款典型的微流体通道。自动检测功能可以弥补基材面或感光层不平的问题。

ProtoLaser LDI
支持DXF文件,并且可以对CAD文件进行修改。多种嵌入功能使微流体通道设计非常简单和高效。可选择不同激光刀具和算法,来优化直写速度得到精细结构。所有的准备工作都可以通过可视化软件进行控制。

技术参数:ProtoLaser LDI


基材尺寸

可达100 mm x 100 mm (4’’ x 4’’)

激光波长

375 nm

激光光斑尺寸 (TEM00)

1 μm (0.04 Mil) and/ 3 μm (0.12 Mil), 用户可自选

激光光斑定位分辨率

< 1 nm

激光直写速度

可至100 000 spots per second

图形尺寸

可至 1 μm (0.04 Mil)

数据输入格式

DXF, Gerber, BMP


电源

230 V/50 Hz, 100 VA

设备尺寸 (W x H x D)

650 mm x 522 mm x 626 mm (25.6” x 20.6” x 24.6”)

重量

80 kg (176.4 lbs)

集成摄像头

用于样品检测和校正摄像头

硬件和软件的要求配置

Windows 7, 32 bit or Windows XP, 32 bit with service pack 3,1.3 GHz processor or higher, 2 GB RAM (4 GB recommended), 160 MB of available hard-disk space for installtion screen resolution min.1024*768 pixles (1600 x 1050 recommended)